2011年12月1日 星期四

石化、晶圓及半導體放流水單獨列管

‧ 朱淑娟/2011.12.1

環保署今天(12月1日)發布石油化學業石油化學專業區汙水下水道系統晶圓製造及半導體製造業等放流水標準。去年12月環保署也將「光電材料及元件製造業」放流水分離出來單獨管制。這些產業的放流水某些特殊物質對環境影響大,但過去都跟「其他工業」適用同一標準,如今能分離出來單獨列管值得肯定,只不過管制方式與理想還有差距,仍待努力。

今天公布的這個版本內容與九月五日公聽會提出的草案幾乎相同,比較關鍵的是,過去氨氮只有水源區才管,但近年來台灣河川水質中氨氮來源已經從過去以畜牧廢水為大宗,漸漸地工業廢水比例也愈來愈高,因此將氨氮納管。環保署預估,標準施行後每年可削減4,000公噸氨氮排入河川水體。

石油化學業

主要增訂含氯或含苯等6項揮發性有機物(VOCs)、以及鄰苯二甲酸乙己酯(DEHP)等6項塑化劑列入管制。並訂定氨氮管制限值。

氨氮管制方式:
排放於保護區內者10 mg/L
排放於保護區外的新設事業20 mg/L

既設事業如屬非高含氮製程:
管制限值20 mg/L,自101年7月1日起施行

高含氮製程採兩階段管制:
第一階段限值為150 mg/L,自103年12月31日施行
第二階段限值為60 mg/L,自105年7月1日施行

環保團體質疑石油化學業未管制總毒性有機汙染物(TTO),環保署表示,總毒性有機物是當對物質毒性不清楚時採用的總合廢水管制方式,但石油化學業其中6種揮發性有機物、6種塑化劑,生物毒性已經很明確,單獨管制比較合理。

不過即使其他業別有管制TTO,但這項管制是參考美國電子晶體與半導體元件製造業約30種物質來訂定,並未針對國內產業特性去找出真正關切的物質。而且把管制值定在1.37mg/L(毫克/公升),大概沒有業者達不到的。

晶圓製造及半導體製造業

主要增訂氟鹽、氨氮及總毒性有機物等管制項目。

氨氮之管制方式:
排放於保護區內者10 mg/L
排放於保護區外之新設事業20 mg/L

既設事業採兩階段管制:
第一階段限值75 mg/L,自101年7月1日施行
第二階段限值30 mg/L,自104年7月1日施行

氨氮管制還有漏網之魚

這兩個業別都未納管生物急毒性。而雖然都納管氨氮,但還有重大的漏網之魚,問題出在去年訂定的「光電材料及元件製造業」放流水標準適用於科學園區,因此晶圓製造及半導體放流水標準管制就未納入科學園區,然而多數半導體業就在新竹科學園區內,這點有待環保署日後持續檢討。

2 則留言:

張小凸 提到...

感謝,你文章的分享,但小弟有問題想請問,即貴文中提及"「光電材料及元件製造業」放流水標準適用於科學園區,因此晶圓製造及半導體放流水標準管制就未納入科學園區"之法條依據為何? 感謝。

朱淑娟 shuchuan7@gmail.com 提到...

你好 這並沒有什麼法條依據 也是外界質疑最多的地方 環保署的說法是 去年修正的放流水標準已考量科學園區汙水廠放流水特性 所以這次未再納入科學園區 不過我想真正的理由不在此 去年公聽會時科學園區業者對於管制氨氮反彈很大 應該是業者的壓力才沒訂的